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氧化硅片与氮化硅片:半导体制造中的关键材料对比与应用
氧化硅片与氮化硅片:半导体制造中的关键材料对比与应用
2025 / 05 / 22
在当今快速发展的半导体行业中,材料选择对器件性能有着决定性影响。氧化硅片(SiO₂)和氮化硅片(Si₃N₄)作为两种重要的绝缘材料,在集成电路制造中扮演着不可替代的角色。本文将深入分析这两种材料的特性差异、制造工艺以及在微电子领域的典型应用场景.
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