| 类型 | 型号 | 厚度/um | 分辨/um | 工艺应用 |
| 电子束光刻胶 | HSQ | 30nm-950nm | <10 | 极佳分辨率电子束负胶，抗刻蚀 |
| 520 | 50nm-1um | <10 | 高分辨率电子束正胶，抗刻蚀 | |
| EBL 6000系列 | 100nm-500nm | <100 | 电子束负性光刻胶 | |
| ma-N2400系列 | 100nm-1.5um | <100 | 电子束负性光刻胶 | |
| PMMA/MMA (国产/进口) | 多种分子量、固体含量组合 | 双层胶工艺 | ||
| AR-P 6200 | 100nm-700nm | <10 | 高分辨率电子束正胶 | |
| 以上厚度均为单次涂覆厚度；分辨率一般为极限分辨率。 | ||||
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