首页
衬底
硅片
单晶硅片
高阻硅片
氧化硅片
氮化硅片
镀金属膜硅片
SOI硅片
异形硅片
外延硅片
进口硅片
玻璃片
BF33玻璃
石英片
蓝宝石晶片
氟晶云母
Ⅲ-Ⅴ族晶片
氮化镓GaN
磷化铟InP
砷化稼晶片
Ⅳ族晶片
碳化硅SiC
锗片Ge
滤光片
长通滤光片
窄带滤光片
光刻胶
紫外正性光刻胶
紫外负性光刻胶
Lift Off光刻胶
电子束光刻胶
特殊应用功能胶
MEMS代工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
掺杂
切割划片
微孔打孔
减薄
抛光
新闻资讯
关于我们
公司简介
联系方式
EN
网站首页
衬底
硅片
玻璃片
Ⅲ-Ⅴ族晶片
Ⅳ族晶片
滤光片
光刻胶
紫外正性光刻胶
紫外负性光刻胶
Lift Off光刻胶
电子束光刻胶
特殊应用功能胶
MEMS代工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
掺杂
切割划片
微孔打孔
减薄
抛光
新闻资讯
关于我们
公司简介
联系方式
搜索
微孔打孔
您的当前位置:
首页
>
MEMS代工
>
微孔打孔
>
光刻
刻蚀
镀膜
键合
掺杂
切割划片
微孔打孔
减薄
抛光
微孔打孔
微孔打孔
打孔工艺是芯片制造中不可或缺的一个步骤,它可以在芯片上形成导孔以供穿通导线或构件。芯片金属打孔技术,主要分为机械钻孔和激光钻孔两种方式。新越半导体为多家高校/科研机构提供MEMS加工代工服务,提供玻璃、金属片、硅片、半导体、芯片打孔等微孔打孔加工服务。
打孔:
● 材质:玻璃、金属片、硅片、半导体、芯片等
● 微米级孔径
衬底
硅片
玻璃片
Ⅲ-Ⅴ族晶片
Ⅳ族晶片
滤光片
光刻胶
紫外正性光刻胶
紫外负性光刻胶
Lift Off光刻胶
电子束光刻胶
特殊应用功能胶
MEMS代工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
掺杂
切割划片
微孔打孔
减薄
抛光
新闻资讯
硅片加工工艺流程
什么是硅片,硅片有哪些分类
单晶硅和多晶硅的区别
碳化硅衬底的制备和分类
关于我们
公司简介
联系方式
Copyright © 江苏新越半导体科技有限公司 版权所有
苏ICP备2023025394号-1